湖南永康真空镀膜设备

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜脏】： 顾名思义，膜层有脏。一般的膜脏发生在膜内或膜外。脏也可以包括：灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等。 改善对策：检讨过程，杜绝脏污染。 1. 送交洗净或擦拭的镜片不要有过多的不良附着物。 2. 加强镀前镜片的洗净率或擦净率。 3. 改善上伞后待镀膜镜片的摆放环境，防止污染。 4. 养成上伞作业员的良好习惯，防止镜片污染。 5. 加快真空室护板更换周期。 6. 充气管道清洁，防止气体充入时污染。 7. 初始排期防涡流（湍流），初始充气防过充。 8. 镜片摆放环境和搬运过程中避免油污、水汽。 9. 工作环境改造成洁净车间。 10. 将镀膜机作业面板和主机隔开，减少主机产生的有害物质污染镜片。真空镀膜设备的主要应用。湖南永康真空镀膜设备

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜色差异】：膜色差异有两种（不含色斑），一种时整罩上、中、下膜色不一致，即分光测试曲线有差异；二是单片膜色不一致。改善对策：1.调整修正版，尽量考虑高低折射率膜料的平衡兼容，如果有两个蒸发源，可能的条件下，独li使用各自的修正板，避免干扰。2.条件许可，采用行星夹具。3.伞片整形。4.加强伞片管理。5.改善膜料状况6.能够自动预熔的膜料，尽量自动预熔注：修正板对物理膜厚的修正有效，但对折射率的修正是力不从心的，所以完全靠修正板解决分光均匀性，是很困难的。如果一个修正板对应二把电子抢（蒸发源）、以及多种膜料，就会有较大困难。湖南真空镀膜设备复合真空计磁控溅射真空镀膜设备是什么？

【真空镀膜磁控溅射法】： 溅射镀膜Zui初出现的是简单的直流二极溅射，它的优点是装置简单，但是直流二极溅射沉积速率低；为了保持自持放电，不能在低气压(

【光谱分光不良的补救（补色）之其他情况】：分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。中断的原因形式之其他情况：对于用错程序，错误操作（预熔未关闭挡板等）人为中断需要补救的；以及反光膜、滤光膜镀后需要补救的情况处理方案：模拟：将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值。通过计算机模拟（一般是Zui后一层的膜厚确认），找到与实现测试值结果相应的膜系数据。真空镀膜机为什么会越来越慢？

【离子镀的历史】： 真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。 【离子镀的原理】： 蒸发物质的分子被电子撞击后沉积在固体表面称为离子镀。蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于 真空罩内充有惰性氩气，在放电电场作用下部分氩气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表 面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并 被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘 附于工件表面的镀层。 【离子镀的优缺点】： 优点：膜层附着力好，膜层致密，具有绕度性能，能在形状复杂的零件表面镀膜。 缺点：离子镀的应用范围不广；膜与基体间存在较宽的过渡界面。会有气体分子吸附。 真空镀膜机详细镀膜方法。湖南永康真空镀膜设备

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【真空镀膜设备之低温泵】： 低温泵：低温泵分为注入式液氦低温泵和闭路循环气氦制冷机低温泵两种。主要用于高真空或超高真空，属于干泵，工作方式为气体捕集。极限真空&6~&9Torr。 用低温介质将抽气面冷却到20K 以下，抽气面就能大量冷凝沸点温度比该抽气面温度高的气体，产生很大的抽气作用。这种用低温表面将气体冷凝而达到抽气目的的泵叫做低温泵，或称冷凝泵。低温泵可以获得抽气速率Zui大、极限压力Zui低的清洁真空，guang泛应用于半导体和集成电路的研究和生产，以及分子束研究、真空镀膜设备、真空表面分析仪器、离子注入机和空间模拟装置等方面。 湖南永康真空镀膜设备